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深圳大學(xué)張雷教授課題組最新AFM:揭示Ni-N?O?異相分子催化劑在H?O?電合成的高殼層配位規(guī)律

來(lái)源:化學(xué)加APP      2025-12-24
導(dǎo)讀:該研究報(bào)道了一系列通過(guò)非第一配位殼層工程實(shí)現(xiàn)電子結(jié)構(gòu)精確調(diào)控的非均相分子Ni–N?O?催化劑(Ni–N?O? HMCs)。該策略系統(tǒng)揭示了電子構(gòu)型(氧化態(tài)/自旋態(tài))、電化學(xué)穩(wěn)定性和催化性能之間的內(nèi)在關(guān)聯(lián)。具有擴(kuò)展共軛結(jié)構(gòu)的優(yōu)化低自旋Ni–DPP HMC,在寬電位范圍(0.7–0.2 V vs. RHE)內(nèi)實(shí)現(xiàn)了>90%的H?O?選擇性,并在0.5 V時(shí)達(dá)到97%,在流動(dòng)池中于工業(yè)相關(guān)電流密度800 mA cm?2下取得了破紀(jì)錄的52.13 mol gcat?1 h?1的產(chǎn)率。原位光譜學(xué)和DFT計(jì)算表明,Ni–DPP調(diào)節(jié)了*OOH吸附,優(yōu)化了活性與選擇性之間的平衡。這些發(fā)現(xiàn)為理性設(shè)計(jì)用于高效H?O?電合成的單原子催化劑提供了關(guān)鍵見(jiàn)解。
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第一作者(或者共同第一作者):彭建釗(副研究員),麥景行(碩士研究生) 

通訊作者(或者共同通訊作者):張雷教授,李慧齊助理教授,樂(lè)弦副教授

通訊單位:深圳大學(xué)

年份:2025

Doi:https://doi.org/10.1002/adfm.202527905


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該研究報(bào)道了一系列通過(guò)非第一配位殼層工程實(shí)現(xiàn)電子結(jié)構(gòu)精確調(diào)控的非均相分子Ni–N?O?催化劑(Ni–N?O? HMCs)。該策略系統(tǒng)揭示了電子構(gòu)型(氧化態(tài)/自旋態(tài))、電化學(xué)穩(wěn)定性和催化性能之間的內(nèi)在關(guān)聯(lián)。具有擴(kuò)展共軛結(jié)構(gòu)的優(yōu)化低自旋Ni–DPP HMC,在寬電位范圍(0.7–0.2 V vs. RHE)內(nèi)實(shí)現(xiàn)了>90%的H?O?選擇性,并在0.5 V時(shí)達(dá)到97%,在流動(dòng)池中于工業(yè)相關(guān)電流密度800 mA cm?2下取得了破紀(jì)錄的52.13 mol gcat?1 h?1的產(chǎn)率。原位光譜學(xué)和DFT計(jì)算表明,Ni–DPP調(diào)節(jié)了*OOH吸附,優(yōu)化了活性與選擇性之間的平衡。這些發(fā)現(xiàn)為理性設(shè)計(jì)用于高效H?O?電合成的單原子催化劑提供了關(guān)鍵見(jiàn)解。

背景介紹

過(guò)氧化氫是一種重要的綠色氧化劑,廣泛應(yīng)用于醫(yī)療消毒、廢水處理、紙漿漂白和有機(jī)合成等領(lǐng)域。傳統(tǒng)蒽醌具有高能耗、復(fù)雜的運(yùn)輸系統(tǒng)以及大量有機(jī)溶劑的使用的缺點(diǎn),不僅成本高昂,還帶來(lái)顯著的環(huán)境負(fù)擔(dān)。電化學(xué)合成通過(guò)兩電子氧還原反應(yīng)制備過(guò)氧化氫,被視為一種更清潔、節(jié)能的替代方案。近年來(lái),碳基材料、金屬合金、單原子催化劑等多種材料被開(kāi)發(fā)用于過(guò)氧化氫電合成。其中,單原子催化劑因其近100%的原子利用效率和可通過(guò)原子級(jí)配位工程精確調(diào)控的電子構(gòu)型而備受關(guān)注,在M-N-C SACs中,平面M-N?構(gòu)型被廣泛認(rèn)為是ORR的內(nèi)在活性位點(diǎn)。調(diào)控這些位點(diǎn)的配位環(huán)境已成為調(diào)節(jié)其電子結(jié)構(gòu)和優(yōu)化催化性能的有效策略。此外打破 M-N? 位點(diǎn)的高對(duì)稱性已被證明可以有效重新分布電荷密度,移動(dòng)d帶中心,從而有利于O?活化、電子轉(zhuǎn)移和穩(wěn)定關(guān)鍵中間體。因此,低對(duì)稱性的 M-N?O? 構(gòu)型展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì):更高的催化活性、在不改變第一配位層的情況下實(shí)現(xiàn)電子重新分配的更大靈活性,以及通過(guò)配位數(shù)/對(duì)稱性調(diào)控可調(diào)節(jié)的自旋態(tài)/氧化態(tài)。盡管已有研究報(bào)道了具有高過(guò)氧化氫選擇性的M-N?O?催化劑,但配位誘導(dǎo)的電子構(gòu)型變化與催化性能之間的基本關(guān)聯(lián)仍未被充分理解。特別是,自旋態(tài)對(duì)調(diào)控2e- ORR 路徑的影響仍是一個(gè)未被深入探索的領(lǐng)域。

本文亮點(diǎn)

本工作選擇了Ni-N?O?異質(zhì)分子催化劑作為模型體系,通過(guò)高殼層精準(zhǔn)調(diào)控的異相分子Ni中心的自旋態(tài)。從“N側(cè)”和“O側(cè)”兩個(gè)方向?qū)ε湮画h(huán)境進(jìn)行工程化改造,并尋找自旋變化與ORR性能,H2O2選擇性的關(guān)系。

“N 側(cè)”工程旨在通過(guò)替換不穩(wěn)定的亞胺結(jié)構(gòu)并使用剛性結(jié)構(gòu)來(lái)提高化學(xué)穩(wěn)定性。

“O 側(cè)”工程則通過(guò)用弱場(chǎng)配體替換強(qiáng)場(chǎng)配體,生成了兩個(gè)高自旋樣品。


圖文解析

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圖1 材料合成與電鏡表征

a) 調(diào)整Ni-N2O2配合物的配位環(huán)境;b) Ni-N2O2HMCs結(jié)構(gòu)示意圖;c) Ni-N2O2HMCs的TEM圖像 ;d) Ni-N2O2HMCs的HAADF-STEM圖像。

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圖2 材料的XPS與XAS表征

a) Ni-N2OHMCs的Ni 2p圖像,可以見(jiàn)到高自旋樣品出現(xiàn)了明顯的衛(wèi)星峰,并且氧化態(tài)更高;b) Ni-N2O2的Ni 2p,可以吡啶氮配位樣品的XPS結(jié)合能高于亞胺結(jié)構(gòu)樣品;c) XANES 譜圖顯示,所有 Ni-N?O? HMCs 的邊緣能量接近 NiO,表明鎳的價(jià)態(tài)為 Ni2?;d) EXAFS 分析顯示,所有 Ni-N?O? HMCs 中均未觀察到 Ni-Ni 或 Ni-O-Ni 散射峰,進(jìn)一步證實(shí)了鎳位點(diǎn)是原子級(jí)分散;(e)通過(guò)擬合同步輻射證明Ni-N2O2 HMCs的配位情況。

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圖3 RRDE測(cè)試

a) LSV測(cè)試:高自旋樣品在RRDE測(cè)試中起始電位明顯高于低自旋樣品;b) RRDE選擇性:可以看出Ni-DPP HMCs 在寬電位下(0.2-0.7 V vs. RHE)的選擇性均高于90%;c) 在0.4V、0.5V和0.6V時(shí),Ni-N2OHMCs的H2O2選擇性與起始電位(E0)之間的相關(guān)性;d) N2氛圍下的H2O2RR測(cè)試,可以看出Ni-DPP HMCs對(duì)H2O2的分解能力最弱,進(jìn)一步印證其選擇性高的原因;(e)KSCN毒化實(shí)驗(yàn):低自旋樣在KSCN毒化實(shí)驗(yàn)中電流減弱程度明顯低于高自旋樣品,這很可能歸功于鄰近Ni-N2O2基序的α碳,該基序促進(jìn)O2活化,并與SCN-競(jìng)爭(zhēng)吸附;(f)Ni-DPP HMCs的H2O2選擇性,起始電位(E0)與已報(bào)道文獻(xiàn)進(jìn)行對(duì)比。

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圖4 工業(yè)級(jí)電流下高效生產(chǎn)H2O2與有機(jī)合成應(yīng)用

(a) 0.1M KOH流動(dòng)池下的LSV;(b) 1M KOH下不同電流密度的FE與H2O2產(chǎn)率;(c) 流動(dòng)池性能對(duì)比:Ni-DPP HMCs能在流動(dòng)電解池中于800 mA cm?2的工業(yè)級(jí)電流密度下,實(shí)現(xiàn)了52.13 mol gcat?1 h?1的高產(chǎn)率,領(lǐng)先于已報(bào)道文獻(xiàn);(d) 流動(dòng)池的穩(wěn)定性測(cè)試;(e) Ni-DPP HMCs在流動(dòng)池陰極對(duì)苯甲腈原位水解的示意圖。

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圖5 機(jī)理解釋

(a) Ni-DPP HMCs原位紅外測(cè)試,可以見(jiàn)到 OOH*峰比其他樣品強(qiáng)度更高,體現(xiàn)了其良好的OOH*吸附能力,解釋其選擇性良好的原因;(b) 原位拉曼測(cè)試:Ni-DPP HMC在755 cm?1處表現(xiàn)出典型的Ni-OOH峰,隨著過(guò)電位升高(0.5V-0.3V)而增強(qiáng),這與原位ATR-SEIRAS中觀察到的*OOH趨勢(shì)一致;(c-d) EPR測(cè)試與磁化率測(cè)試:解釋Ni-N2O2 HMCs自旋態(tài);(e) 不同自旋態(tài)Ni金屬中心電子分布示意圖。

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圖6 DFT計(jì)算

(a)電荷密度圖:高自旋樣品從苯酚氧中獲得電子多于低自旋樣品,符合XPS中高自旋樣品價(jià)態(tài)較高結(jié)果;(b)PDOS圖:Ni-DPP的Ni三維軌道中心位置為-1.63 eV,高于Ni-Salo(-2.66 eV)和Ni-H4Salo(-1.89 eV)。這表明Ni-DPP中與反應(yīng)中間體的相互作用更強(qiáng),解釋為何Ni-DPP HMCs具有優(yōu)秀的選擇性;(c)2e-ORR火山圖:Ni-DPP居峰頂,活性/選擇性最佳;(d) 2e-/4e-ORR的自由能圖:可以看到Ni-DPP表現(xiàn)出了最低的2e-ORR反應(yīng)能壘,更有利于*OOH脫附,而Ni-DBP表現(xiàn)出更高的*OOH結(jié)合能,成功論證了為何高自旋樣品更偏向4e- ORR,而低自旋樣品偏向2e-ORR;(e)形成能計(jì)算評(píng)估了 Ni-N?O? 的穩(wěn)定性。Ni-DPP 顯示出最低的形成能,與其卓越的長(zhǎng)期穩(wěn)定性一致,而 Ni-Salo 顯示出最高的形成能,表明其位點(diǎn)最不穩(wěn)定。


總結(jié)

這項(xiàng)研究不僅創(chuàng)制了過(guò)氧化氫電合成的性能新紀(jì)錄,更構(gòu)建了從催化劑原子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)到宏觀性能調(diào)控的完整知識(shí)框架。研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)對(duì)非第一配位層的精確工程,成功調(diào)控了鎳中心的電子結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)了對(duì)自旋態(tài)、氧化態(tài)和關(guān)鍵中間體吸附行為的精確控制。隨著全球?qū)G色化工需求的不斷增長(zhǎng),這種高效、穩(wěn)定的過(guò)氧化氫電合成技術(shù)有望替代傳統(tǒng)高耗能工藝,在醫(yī)療消毒、廢水處理、清潔生產(chǎn)等多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。未來(lái),基于這一設(shè)計(jì)理念,研究團(tuán)隊(duì)將進(jìn)一步探索不同金屬中心和配體結(jié)構(gòu)的組合,開(kāi)發(fā)更多高效穩(wěn)定的電合成催化劑。


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